近日，ASML首席执行官Peter Wennink在一次采访中表示，尽管部分供应商遇到了一些问题，但公司仍计划在今年年底之前交付高数值孔径EUV光刻设备（High-NA EUV）。 他指出，一台高数值孔径EUV设备的体积相当于一辆卡车，每台设备的售价超过3亿美元（约合21.9亿元人民币）。这些设备可以满足一线芯片制造商的需求，未来十年内能够制造更小、更好的芯片。 然而，部分供应商无法提高组件的数量和质量，这导致了轻微的延误。然而，Wennink表示，这些困难可以控制，公司仍计划在今年年底之前交付首台机器。他还透露，ASML及其合作伙伴正在开发一种全新的EUV光刻机——Twinscan EXE:5000系列，该系列机器将具有0.55NA（高数值孔径）的透镜，分辨率达8nm，旨在在3nm及以上节点中尽可能避免双重或是多重曝光。
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