据外媒报道,全球最大存储芯片制造商三星电子周二宣布,该公司开始使用极紫外光刻(EUV)技术批量生产业界最小的14纳米DRAM芯片,这有助于其巩固在存储行业的领导地位。
继去年3月出货业界首款EUV DRAM之后,三星电子已将EUV层的数量增加到5层,为其DDR5解决方案提供当今最精细、最先进的DRAM生产工艺。
DDR5是下一代DRAM标准,与DDR4相比,它具有速度快、密度高、功耗低的特点。 它还针对大数据、人工智能(AI)和机器学习等数据密集型应用进行了优化。
三星电子表示,EUV技术减少了多图案绘制中的重复步骤,提高了图案绘制的准确性,从而实现了更好的性能和更高的产量,并缩短了开发时间。